[发明专利]光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法有效
| 申请号： | 201410088185.6 | 申请日： | 2014-03-11 |
| 公开（公告）号： | CN103955117A | 公开（公告）日： | 2014-07-30 |
| 发明（设计）人： | 闫观勇;李思坤;王向朝;沈丽娜;刘晓雷 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人： | 张泽纯 |
| 地址： | 201800 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种光刻机投影物镜波像差检测标记和检测方法。采用方向不同，尺寸相同的一维图形作检测标记。采集检测标记的空间像，对空间像光强拟合得到投影物镜波像差。本发明高精度地校正了空间像位置偏移，降低了空间像位置误差，增加了可检测的泽尼克像差数目，提高了泽尼克像差的检测精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 投影 物镜 波像差 检测 标记 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻机投影物镜波像差检测的检测标记，其特征在于，所述的检测标记由方向不同，尺寸相同的一维图形构成： (1)所述图形的方向包含0°、30°、45°、60°、90°、120°、150°中的任何一个或几个方向； (2)各个方向上的图形都是轴对称图形，都具有相同的几何参数； (3)各个方向上的图形由2～5个透射空构成，透射空的宽度最小为光刻机工作波长的1/10，最大不超过光刻机工作波长的5倍；相邻透射空的中心位置间隔最小为光刻机工作波长的1/5，最大不超过光刻机工作波长的10倍；检测标记的周期Pitch不超过光刻机工作波长的50倍；所述的宽度都是硅面宽度。
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