[发明专利]薄层分离膜及其制备方法无效
申请号: | 201410088244.X | 申请日: | 2007-11-23 |
公开(公告)号: | CN103861470A | 公开(公告)日: | 2014-06-18 |
发明(设计)人: | 彼得·霍尔沃·拉尔森;瑟伦·林德罗斯;彼得·旺·亨德里克森 | 申请(专利权)人: | 丹麦科技大学 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D69/12;B01D67/00;H01M4/86;H01M4/88 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 朱梅;李维盈 |
地址: | 丹麦*** | 国省代码: | 丹麦;DK |
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摘要: | 本发明提供了一种薄层分离膜及其制备方法,所述薄层分离膜至少包括多孔阳极层、包含混合导电材料的膜层和多孔阴极层,其中所述阳极层和阴极层包含该混合导电材料和催化剂材料,并且其中该薄层分离膜的总厚度为约150μm以下。 | ||
搜索关键词: | 薄层 分离 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种薄层分离膜,其至少包括多孔阳极层、包含混合导电材料的膜层和多孔阴极层,其中所述阳极层和阴极层包含该混合导电材料和催化剂材料,并且其中该薄层分离膜的总厚度为100μm以下。
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