[发明专利]一种含铪的碳化物涂层及其制备方法有效
申请号: | 201410090433.0 | 申请日: | 2014-03-13 |
公开(公告)号: | CN103834929A | 公开(公告)日: | 2014-06-04 |
发明(设计)人: | 何庆兵;吴护林;李忠盛;张隆平;陈大军;田武强 | 申请(专利权)人: | 中国兵器工业第五九研究所 |
主分类号: | C23C16/32 | 分类号: | C23C16/32 |
代理公司: | 重庆弘旭专利代理有限责任公司 50209 | 代理人: | 周韶红 |
地址: | 400039 重*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明涉及一种含铪的碳化物涂层的制备方法,就是将四氯化铪HfCl4蒸汽通入放置有已加热至工艺温度的待处理工件且置于通有保护气氛的容器内,然后通入反应量的氢气H2和甲烷CH4,使四氯化铪HfCl4蒸汽与氢气H2和甲烷CH4气体反应并在该工件上沉积制成;制得的涂层为碳化铪HfCx,X为0.9-1。本发明不仅获得较高的涂层沉积速率,而且提高了原材料利用率,省去了复杂的真空系统,降低设备及工艺成本,对基材无损伤。同时C/C复合材料制得的涂层与基体结合力强,涂层均匀,涂层覆盖全面,具备良好的长时抗高温氧化浸蚀应用潜力。且涂层总厚度可在5μm~100μm之间任意调控。 | ||
搜索关键词: | 一种 碳化物 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种含铪碳化物涂层的制备方法,其特征在于:将四氯化铪HfCl4蒸汽通入放置有已加热至工艺温度的待处理工件且该工件置于通有保护气氛的容器内,然后通入反应量的氢气H2和甲烷CH4,使四氯化铪HfCl4蒸汽与所述氢气H2和所述甲烷CH4气体反应并在该工件表面上沉积;制得的涂层为碳化铪HfCx,X为0.9‑1;所述保护气氛为氩气和氢气混合气,其中氩气体积占混合气体积的25%~75%;所述工艺温度为1100℃~1400℃;所述反应量的氢气H2和甲烷CH4的流量比控制在CH4/H2=0.05~0.15;所述四氯化铪HfCl4蒸汽、氢气H2和甲烷CH4气体三者化学反应后,在工件表面沉积时间为30min~10h。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的