[发明专利]等离子体室部件上的抗腐蚀铝涂层有效
申请号: | 201410090592.0 | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN104046981B | 公开(公告)日: | 2020-01-17 |
发明(设计)人: | 约翰·多尔蒂;石洪;许临;安东尼·阿玛多;罗伯特·G·奥尼尔;彼得·霍兰;西瓦克米·拉马纳坦;金太旺;杜安·乌特卡;约翰·迈克尔·克恩斯;索尼娅·卡斯蒂落 | 申请(专利权)人: | 朗姆研究公司 |
主分类号: | C23C24/08 | 分类号: | C23C24/08;C25D11/04;C23C16/513;H01L21/3065 |
代理公司: | 31263 上海胜康律师事务所 | 代理人: | 李献忠 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本发明涉及等离子体室部件上的抗腐蚀铝涂层,公开了半导体材料处理室的部件,所述部件可包括基底和在基底表面上形成的至少一个抗腐蚀涂层。该至少一个抗腐蚀涂层是通过冷喷涂技术形成的高纯度金属涂层。阳极化层可被形成在该高纯度金属涂层上。阳极化层包括该部件的工艺暴露表面。此外,公开了包括所述部件中的一或多个的半导体材料处理装置,所述部件选自由室衬、静电卡盘、聚焦环、室壁、边缘环、等离子体约束环、基底支撑件、挡板、气体分配板、气体分配环、气体喷嘴、加热元件、等离子体屏、输送机构、气体供应系统、升降机构、加载锁、门机构、机械臂和紧固件组成的组。此外还公开了制造所述部件的方法和用所述部件等离子体处理的方法。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 部件 腐蚀 涂层 | ||
【主权项】:
1.一种等离子体处理室的铝涂层部件,所述部件包括:/n具有表面的基底;和/n在所述基底的所述表面的至少一部分上的冷喷涂的铝涂层;/n其中所述冷喷涂的铝涂层包含通过颗粒的塑形变形键合到所述表面的铝粉材料颗粒;以及/n其中/n所述冷喷涂的铝涂层包括100ppm或更少的Mn、Si、Ni、Cr、Cu、V、Fe、Mg、Zn、Ti、B、Pb、Zr、Bi、Sn和Ca中的每一者;/n所述冷喷涂的铝涂层具有10微英寸至20微英寸的表面粗糙度Ra;以及/n所述冷喷涂的铝涂层具有至少15密耳的厚度并建立杂质或气体弥散屏障。/n
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