[发明专利]清洁电子元件的清洁设备及工艺在审
| 申请号： | 201410093758.4 | 申请日： | 2014-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN104907288A | 公开（公告）日： | 2015-09-16 |
| 发明（设计）人： | 朴健禹 | 申请（专利权）人： | 东莞高伟光学电子有限公司 |
| 主分类号： | B08B7/04 | 分类号： | B08B7/04;B08B7/00;B08B5/02 |
| 代理公司： | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人： | 仉玉新 |
| 地址： | 523413 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 一种用于清洁电子元件（例如照相机模块或者电子基板）的清洁设备。该清洁设备具有多个处理区，和一个或多个传送装置，该传送装置用于将电子元件相继的传送到每一个处理区，使得所述电子元件顺序在串连的处理区进行处理。在一个方面，在一个处理区中，在大气压力下，对所述电子元件采用等离子处理。另一方面，还包括多个分离控制的传送装置，其中，该电子元件在每一个处理区经过各自的处理时间进行处理，其中至少一个处理时间不同于其他的处理时间。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 电子元件 设备 工艺 | ||
【主权项】：
一种用于清洁电子元件的清洁设备，所述清洁设备包括：多个处理区，所述电子元件在每一处理区经过各自的处理时间之处理，其中所述之各自的处理时间至少一个不同于其它的处理时间；和多个单独操控的传送装置，所述传送装置用于将所述电子元件相继传送到每一个处理区，以使所述电子元件顺序通过每个处理区依次进行处理。
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