[发明专利]光源单元、发光设备及图像投射设备有效
| 申请号： | 201410095617.6 | 申请日： | 2014-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN104049448A | 公开（公告）日： | 2014-09-17 |
| 发明（设计）人： | 高桥达也;逢坂敬信;中村直树;藤田和弘;西森丈裕 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G03B21/20 | 分类号： | G03B21/20;G03B21/28;G02B27/00;H04N5/74 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 吴俊 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及光源单元、发光设备及图像投射设备。一种光源单元，包括具有反射面的第一反射器；具有反射面的第二反射器；多个光源；以及布置在第一反射器和第二反射器之间的聚光光学系统。从多个光源发出的光束在第一反射器的反射面上的第一反射位置处反射，然后在第二反射器的反射面上的第二反射位置处反射。与第一反射位置相比，第二反射位置更接近聚光光学系统的光轴。聚光光学系统构造成当光束在第一反射器和第二反射器之间反射时，光束穿过聚光光学系统至少两次。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 单元 发光 设备 图像 投射 | ||
【主权项】：
一种光源单元，包含：具有反射面的第一反射器；具有反射面的第二反射器；多个光源；以及聚光光学系统，布置在所述第一反射器和所述第二反射器之间，其中，从所述多个光源发出的光束在所述第一反射器的反射面上的第一反射位置处反射，然后，在所述第二反射器的反射面上的第二反射位置处反射，与所述第一反射位置相比，所述第二反射位置更接近所述聚光光学系统的光轴，所述聚光光学系统构造成当所述光束在所述第一反射器和所述第二反射器之间反射时，所述光束穿过所述聚光光学系统至少两次。
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