[发明专利]半导体装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201410095780.2 申请日: 2014-03-14
公开(公告)号: CN104051401B 公开(公告)日: 2018-09-11
发明(设计)人: 梶原良一;中条卓也;新井克夫;谷藤雄一;冈浩伟;宝蔵寺裕之 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L23/488;H01L23/31;H01L21/56;H01L21/60
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 陈华成
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及半导体装置及其制造方法。本发明的解决的一个问题是提高半导体装置的可靠性。具有:管芯焊盘(6)、搭载于管芯焊盘(6)的SiC芯片(1)、对管芯焊盘(6)和SiC芯片(1)进行接合的多孔质的第1烧结Ag层(16)、以及覆盖第1烧结Ag层(16)的表面并且被形成为圆角状的加强树脂部(17)。进而,具有与SiC芯片(1)的源电极(2)电连接的源极引线(9)、与栅电极(3)电连接的栅极引线、与漏电极(4)电连接的漏极引线、以及覆盖SiC芯片(1)、第1烧结Ag层(16)及管芯焊盘(6)的一部分的密封体(14),加强树脂部(17)覆盖SiC芯片(1)的侧面(1c)的一部分。
搜索关键词: 半导体 装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种半导体装置,其特征在于,具有:芯片搭载部,具有芯片搭载面;宽带隙半导体芯片,经由多孔质的第1烧结Ag层而搭载在所述芯片搭载部的所述芯片搭载面上,并且具有:主面,在所述主面相反侧的背面,在所述主面与所述背面之间的侧面,在所述主面上形成的第1电极,以及在所述背面上形成的第2电极;第1树脂部,覆盖所述多孔质的第1烧结Ag层的在俯视时从所述宽带隙半导体芯片露出的表面;第1引线,与所述宽带隙半导体芯片的所述第1电极电连接;以及密封树脂体,密封所述宽带隙半导体芯片和所述第1树脂部,其中所述第2电极与所述多孔质的第1烧结Ag层接触,其中所述宽带隙半导体芯片的所述侧面的第1部分被所述多孔质的第1烧结Ag层覆盖,其中所述宽带隙半导体芯片的所述侧面的第2部分被所述第1树脂部覆盖并接触,其中所述多孔质的第1烧结Ag层具有多个空孔以及裂纹,该裂纹从所述多孔质的第1烧结Ag层的所述表面朝向所述多孔质的第1烧结Ag层的内部延伸,并且其中所述多孔质的第1烧结Ag层的所述表面被所述第1树脂部覆盖,以使得所述裂纹的内部被所述第1树脂部填充。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410095780.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top