[发明专利]微波谐振器处理系统中的等离子体调谐杆

摘要

本发明涉及微波谐振器处理系统中的等离子体调谐杆。等离子体调谐杆系统设有一个或多个微波腔，一个或多个微波腔被配置成在等离子体内和/或邻近等离子体处通过在一个或多个等离子体调谐杆中生成共振微波能量来将期望的电磁（EM）波模式的EM能量耦合至等离子体。一个或多个微波腔组件可以耦合至处理室，并可以包括一个或多个调谐空间/腔。每个调谐空间/腔可以具有耦合至调谐空间/腔的一个或多个等离子体调谐杆。等离子体调谐杆可以被配置成在处理室内将EM能量从共振腔耦合至处理空间，并由此在处理空间内产生均匀等离子体。

主权项

一种用于处理基片的微波处理系统，包括：处理室，在所述处理室中包括用于处理基片的处理空间；耦合至所述处理室的侧室壁的一个或多个腔组件，在每个腔组件中均具有电磁能量调谐空间，建立在所述电磁能量调谐空间中的电磁耦合区域组、以及耦合至所述侧室壁并被配置成将所述电磁能量调谐空间与所述处理空间隔离的隔离组件组；耦合至所述隔离组件组中的相应一个隔离组件的等离子体调谐杆组，所述等离子体调谐杆组具有被配置为控制所述处理空间中的等离子体均匀性的等离子体调谐部分组，和被配置于所述电磁能量调谐空间中的电磁调谐部分组，每个等离子体调谐部分耦合至所述电磁耦合区域组中的相应一个电磁耦合区域，其中，所述电磁调谐部分组被配置为从所述电磁耦合区域组获得电磁能量；等离子体调谐板组，所述等离子体调谐板组被设置为接近所述电磁能量调谐空间中的电磁耦合区域；板控制组件组，所述板控制组件组通过腔组件壁耦合至所述等离子体调谐板组，每个等离子体调谐板被相应的板控制组件定位于与等离子体调谐杆的电磁调谐部分相距可变的电磁耦合距离的位置处，并且每个等离子体调谐板和板控制组件被定位为与相对应的等离子体调谐杆直接相对；由于所述电磁耦合区域中的相应一个电磁耦合区域的每个等离子体调谐板和板控制组件被定位为与所述相应一个电磁耦合区域的相对应的等离子体调谐杆直接相对，所以每个等离子体调谐板和板控制组件被配置为调谐所述相应一个电磁耦合区域中的电磁能量，以使得当由于至少一个电磁耦合区域的板控制组件和等离子体调谐板的移动不同于至少一个其它电磁耦合区域的板控制组件和等离子体调谐板的移动而使得所述至少一个电磁耦合区域的相应电磁耦合距离不同于所述至少一个其它电磁耦合区域的相应电磁耦合距离时，所述至少一个电磁耦合区域中的电磁能量不同于所述至少一个其它电磁耦合区域中的电磁能量；腔调谐板，所述腔调谐板被配置于所述一个或多个腔组件的每个电磁能量调谐空间中；腔控制组件，所述腔控制组件耦合至每个腔调谐板，其中所述腔调谐板被定位于与所述腔组件的壁相距腔调谐距离的位置处，以及控制器，所述控制器耦合至所述隔离组件组、所述板控制组件、以及所述一个或多个腔组件以及每个腔控制组件，其中所述控制器被配置成独立地使用所述板控制组件组来控制每个等离子体调谐板以控制所述电磁耦合距离，从而调谐与每个电磁耦合区域相关联的每个电磁能量，使用所述隔离组件组来控制所述等离子体调谐杆组，以及控制所述腔调谐距离，由此控制所述电磁能量调谐空间中的电磁耦合区域以调谐所述电磁耦合区域中的电磁能量，以及控制所述处理空间中的等离子体均匀性。