[发明专利]传输系统、反应腔室及半导体加工设备

摘要

本发明提供一种传输系统、反应腔室及半导体加工设备，传输系统包括传输装置和门阀，在传输装置上设置有与反应腔室相连通的传输通道，传输通道用于作为被加工工件移入或移出反应腔室的通道，门阀用于开启或封闭传输通道，门阀设置在传输通道的与反应腔室相连通的端口处，并且门阀采用翻转的方式开启或封闭所述传输通道。本发明提供传输系统，其可以避免工艺气体扩散至传输通道内，因而可以避免反应腔室的中心区域的工艺气体的流速降低出现涡流现象，从而可以提高反应腔室内工艺气体分布的均匀性，进而可以提高工艺质量。

主权项

一种传输系统，包括传输装置和门阀，在所述传输装置上设置有与反应腔室相连通的传输通道，所述传输通道用于作为被加工工件移入或移出所述反应腔室的通道，所述门阀用于开启或封闭所述传输通道，其特征在于，所述门阀设置在所述传输通道的与所述反应腔室相连通的端口处，用以避免在工艺过程中工艺气体扩散至传输通道内，以避免反应腔室的工艺气体的流速降低出现涡流现象；并且所述门阀采用翻转的方式开启或封闭所述传输通道。