[发明专利]一种PVD系统工艺参数的优化方法有效
| 申请号： | 201410101122.X | 申请日： | 2014-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN104928644B | 公开（公告）日： | 2018-03-30 |
| 发明（设计）人： | 陈怡骏;华宇;游宽结;吴秉寰;胡凯 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司;中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所11336 | 代理人： | 董巍,高伟 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种PVD系统工艺参数的优化方法，所述方法包括根据预沉积薄膜的厚度，得到预沉积所述薄膜所需的总沉积时间；将所述总沉积时间分为若干步，每步沉积后有冷却步骤，组成了若干个沉积/冷却循环；根据所述薄膜沉积过程中的沉积温度的上升趋势，在所述沉积温度上升慢的步骤中设定较短的冷却时间，在所述沉积温度上升较快的步骤中设定较长的冷却时间。根据本发明的PVD系统工艺参数的优化方法，改善冷却效果，控制沉积薄膜由于温度高而引起的晶粒长大问题，改善WTW厚度控制，进而提高产品性能和良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 pvd 系统 工艺 参数 优化 方法 | ||
【主权项】：
一种PVD系统工艺参数的优化方法，包括：根据预沉积薄膜的厚度，得到预沉积所述薄膜所需的总沉积时间；将所述总沉积时间分为若干步，每步沉积后有冷却步骤，组成了若干个沉积/冷却循环；根据所述薄膜沉积过程中的沉积温度的上升趋势，在所述沉积温度上升慢的步骤中设定较短的冷却时间，在所述沉积温度上升较快的步骤中设定较长的冷却时间。
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