[发明专利]一种电子器件加工方法有效
| 申请号： | 201410103649.6 | 申请日： | 2014-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN103928756B | 公开（公告）日： | 2017-07-21 |
| 发明（设计）人： | 林辉 | 申请（专利权）人： | 联想（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01Q1/38 | 分类号： | H01Q1/38 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司11270 | 代理人： | 任媛,蒋雅洁 |
| 地址： | 100085*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种电子器件加工方法，所述方法包括在基板的表面设置第一层，所述基板的透光率大于第一透光率，所述第一层用于粘合第二层和所述基板，所述第一层的透光率大于第二透光率；在所述第一层的表面设置所述第二层，所述第二层包括导体材料；在所述第二层的表面设置第三层，形成所述第三层的第三材料包括导体材料，所述第三层具有镂空的几何图案，利用所述几何图案构成所述电子器件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电子器件 加工 方法 | ||
【主权项】：
一种电子器件加工方法，所述方法包括：在基板上的表面喷涂第一材料，形成第一层；所述基板的透光率大于第一透光率，所述基板包括玻璃基板；所述第一层用于粘合第二层和所述基板，所述第一层的透光率大于第二透光率；所述第一材料包括透明漆；在所述第一层的表面设置所述第二层，形成所述第二层的第二材料包括导体材料；在所述第二层的表面设置第三层，形成所述第三层的第三材料包括导体材料，所述第三层具有镂空的几何图案，利用所述几何图案构成所述电子器件；其中，在所述第二层的表面设置第三层，包括：在所述第二层的表面喷涂一层第四材料；使预设区域的所述第四材料固化，固化的第四材料的形状与所述几何图案相同；去除未固化的第四材料，以及所述未固化的第四材料所覆盖的第一层和第二层；去除第二层表面的所述固化的第四材料；在所述第二层的表面设置第三层。
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