[发明专利]薄膜晶体管阵列衬底、其制造方法以及包括薄膜晶体管阵列衬底的有机发光显示装置在审
申请号: | 201410105131.6 | 申请日: | 2014-03-20 |
公开(公告)号: | CN104183602A | 公开(公告)日: | 2014-12-03 |
发明(设计)人: | 朴锺贤;柳春基;许成权;金正桓 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L29/786;H01L21/77;H01L27/32 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;阴亮 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 薄膜晶体管(“TFT”)阵列衬底,其包括:TFT,其包括活性层、栅电极、源电极、漏电极、布置在活性层与栅电极之间的第一绝缘层、以及布置在栅电极与源电极和漏电极之间的第二绝缘层;包含透明导电氧化物并且布置在限定于第二绝缘层中的开口中的像素电极;电容器,其包括布置在布置有活性层的层上的第一电极、以及布置在其上布置有栅电极的层上的第二电极;布置在第二绝缘层并且包含与源电极和漏电极的材料基本相同的材料的焊盘电极;布置在焊盘电极上的第一保护层;以及布置在第一保护层上的第二保护层。 | ||
搜索关键词: | 薄膜晶体管 阵列 衬底 制造 方法 以及 包括 有机 发光 显示装置 | ||
【主权项】:
薄膜晶体管阵列衬底,其包括:薄膜晶体管,其包括:活性层;布置在所述活性层上的栅电极;与所述活性层的源区连接的源电极;与所述活性层的漏区连接的漏电极;布置在所述活性层与所述栅电极之间的第一绝缘层;以及布置在所述栅电极与所述源电极之间以及在所述栅电极与所述漏电极之间的第二绝缘层;布置在限定于所述第二绝缘层中的开口中的像素电极,其中所述像素电极包含透明导电氧化物;以及电容器,其包括:布置在其上布置有所述活性层的层上的第一电极;以及布置在其上布置有所述栅电极的层上的第二电极;布置在所述第二绝缘层上的焊盘电极,其中所述焊盘电极包含与所述源电极和所述漏电极的材料基本相同的材料;布置在所述焊盘电极上的第一保护层;以及布置在所述第一保护层上的第二保护层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
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