[发明专利]一种减少OPC修正后验证误报错的方法有效

专利信息
申请号: 201410106502.2 申请日: 2014-03-20
公开(公告)号: CN103885282B 公开(公告)日: 2017-11-03
发明(设计)人: 何大权;张辰明;魏芳;张旭昇 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G03F1/36 分类号: G03F1/36
代理公司: 上海申新律师事务所31272 代理人: 吴俊
地址: 201210 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种减少OPC修正后验证误报错的方法,其中,步骤一完成OPC修正,在OPC修正完成后产生OPC修正后图形以及OPC修正前的目标图形;步骤二在OPC修正完成后选出导致OPC验证错误误报的图形区域;步骤三截取错误误报图形区域图中的图形边片段;步骤四沿着图形边片段形成独立的OPC验证区域;步骤五进行OPC验证。使用本发明公开的一种减少OPC修正后验证误报错的方法,能够有效地减少OPC验证错误误报并且避免真正OPC修正错误遗漏,从而能提高OPC验证结果检查的效率。
搜索关键词: 一种 减少 opc 修正 验证 误报错 方法
【主权项】:
一种减少OPC修正后验证误报错的方法,其特征在于,步骤一:完成OPC修正,在OPC修正完成后产生OPC修正后图形以及OPC修正前的目标图形;步骤二:在OPC修正完成后选出导致OPC验证错误误报的凹角图形区域;步骤三:截取所述目标图形中错误误报的凹角图形区域图中符合条件的凹角图形边片;步骤四:以所述凹角图形边片为边,所述凹角的顶点为起始点,沿着图形内部方向形成独立的OPC矩形验证区域;步骤五:对形成独立的所述OPC矩形验证区域以外的区域进行验证,通过模拟尺寸和目标尺寸的相对比例进行检查,以及对形成独立的所述OPC矩形验证区域进行验证,该区域模拟尺寸与目标尺寸的相对比例不小于规格规定正常范围内的最小百分比。
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