[发明专利]介层窗层的介层窗图案化掩膜分配的方法

摘要

本发明是有关于一种介层窗层的介层窗图案化掩膜分配的方法，所述的双重图案化技术的介层窗掩膜分离方法的实施例使得介层窗图案化能够对齐其底下或上方的金属层，藉以缩减重叠误差，进而增加介层窗的置放性。假如相邻的介层窗违反介层窗之间的空间或节距(或上述二者)的G0掩膜分离规则，因为具有较高的置放失误风险，故给予末端介层窗的掩膜分配较高的优先顺序，藉此确保末端介层窗有良好的置放性。此与金属相关的介层窗掩膜分离方法可获得如较低的介层窗阻抗的较佳介层窗性能以及较高的介层窗优良率。

主权项

一种介层窗层的介层窗图案化掩膜分配的方法，其特征在于其中该介层窗层的介层窗在工艺上直接对准置放在其对准的金属结构之上，该方法使用一双重介层窗掩膜图案化技术，且该方法包括以下步骤：产生该介层窗层的所述介层窗的多个介层窗掩膜分离规则违反标示，其中所述介层窗掩膜分离规则违反标示连接至少违反一介层窗掩膜分离规则的数个介层窗；决定一介层窗是否触及所述介层窗掩膜分离规则违反标示；假如该介层窗并未触及所述介层窗掩膜分离规则违反标示,分配该介层窗至二介层窗掩膜的其中一者,该者为对准一底下金属结构的一金属掩膜，且该介层窗置放于该底下金属结构之上；假如该介层窗触及所述介层窗掩膜分离规则违反标示其中一者，进行一决定操作，以决定该介层窗是否为一末端介层窗；假如该介层窗为该末端介层窗，分配一第一权重至该介层窗；假如该介层窗并非为该末端介层窗，分配一第二权重至该介层窗；以及进行一分配步骤，以分配触及所述介层窗掩膜分离规则违反标示的每个介层窗至该二介层窗掩膜的其中一者，使得具有该第一权重的介层窗被给予较高的优先顺序，以将具有该第一权重的介层窗分配至正确的介层窗掩膜上，该正确的介层窗掩膜乃对准其一金属掩膜,而在此金属掩膜上具有与该第一权重介层窗有触及或连接的金属结构。