[发明专利]一种边缘曝光系统和边缘曝光方法

摘要

本发明提出一种边缘曝光系统，包括照明系统、掩模台、掩模基板、在所述掩模基板上的主掩模、投影物镜、被曝光基板和工件台，其特征在于，还包括遮光狭缝和在所述掩模基板的边缘至少有一个独立的边缘曝光专用图形的副掩模。本发明还提出一种如上述的曝光系统的边缘曝光方法。

主权项

一种边缘曝光系统的边缘曝光方法，所述边缘曝光系统，包括照明系统、掩模台、掩模基板、在所述掩模基板上的主掩模、投影物镜、被曝光基板和工件台，还包括遮光狭缝和在所述掩模基板的边缘至少有一个独立的边缘曝光专用图形的副掩模；所述遮光狭缝是可以调整可透光区域的长度或宽度的可变狭缝，所述可透过区域为矩形；其特征在于，所述边缘曝光方法包括如下步骤：1)所述掩模台运动，使某个所述副掩模图形中心位于所述投影物镜光轴处；2)所述工件台运动使所述被曝光基板上Y向边缘曝光区位于光轴下，设置所述可变狭缝中心位于投影物镜光轴处，设置所述可变狭缝大小SizeX1，SizeY1,执行X向多次步进曝光，完成Y向两边缘处曝光；3)所述工件台运动使所述被曝光基板上X向边缘曝光区位于光轴下，设置所述可变狭缝中心位置和所述可透光区域X向大小SizeX2，执行所述工件台和所述可变狭缝同步Y向扫描曝光，完成X向两边缘处曝光。