[发明专利]一种钛掺杂氧化镍电阻存储器薄膜的制备方法有效

专利信息
申请号: 201410110946.3 申请日: 2014-03-21
公开(公告)号: CN103904216B 公开(公告)日: 2017-07-28
发明(设计)人: 李颖;赵高扬;王娅静 申请(专利权)人: 西安理工大学
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 西安弘理专利事务所61214 代理人: 李娜
地址: 710048*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 一种钛掺杂氧化镍电阻存储器薄膜的制备方法,将钛酸丁酯和无水乙醇混合加入氧化镍溶胶中,搅拌陈化得到钛掺杂的氧化镍溶胶;采用浸渍提拉法在二氧化锡基板上进行薄膜提拉,将提拉制得的薄膜在室温下进行干燥,得到钛掺杂的氧化镍薄膜;将钛掺杂的氧化镍薄膜热处理后使用溅射仪对其进行顶电极的制备,即得到钛掺杂氧化镍电阻存储器薄膜。本发明制备方法,简便、易行;与常用的半导体薄膜的制备技术相比,这种溶胶‑凝胶方法因为不需要复杂、昂贵的设备,工艺参数易于控制,能大大地降低生产成本,并能制备大面积薄膜;在进行氧化镍薄膜的掺杂时,掺杂工艺简单、定量准确。
搜索关键词: 一种 掺杂 氧化 电阻 存储器 薄膜 制备 方法
【主权项】:
一种钛掺杂氧化镍电阻存储器薄膜的制备方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:步骤1,将醋酸镍和乙酰丙酮溶于乙二醇甲醚中搅拌5~6h后加入丙烯酸,继续搅拌1~2h,搅拌结束后陈化20~24h,得到氧化镍溶胶;步骤2,在室温下将钛酸丁酯和无水乙醇按体积比为1:0.02~0.08混合搅拌10~12h,然后加入到步骤1得到的氧化镍溶胶中,搅拌1.5~2h,搅拌结束后陈化10~12h得到钛掺杂的氧化镍溶胶,氧化镍与钛的摩尔浓度比为1:0.02~0.08;采用浸渍提拉法在二氧化锡基板上进行薄膜提拉,将提拉制得的薄膜在室温下进行干燥,得到钛掺杂的氧化镍薄膜;步骤3,将步骤2得到的钛掺杂的氧化镍薄膜在500℃下进行热处理,最后使用溅射仪对其进行顶电极的制备,即得到钛掺杂氧化镍电阻存储器薄膜。
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