[发明专利]双光栅双色量子阱红外探测器面阵的制作方法有效

专利信息
申请号: 201410112197.8 申请日: 2014-03-25
公开(公告)号: CN103904161A 公开(公告)日: 2014-07-02
发明(设计)人: 苏艳梅;种明 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种双光栅双色量子阱红外探测器面阵的制作方法,包括:在衬底上依次生长下接触层、下量子阱层、中间接触层、上量子阱层和上接触层;制作正面光栅,并制作上电极;刻蚀,形成隔离槽和上台面;刻蚀每个隔离槽一侧的侧壁,形成中台面,刻蚀每个隔离槽另一侧的侧壁,形成下台面;制作中间电极,制作下电极,形成基片;生长一层钝化层;生长引出金属层,把中间电极、下电极和上电极引出到上台面;生长二次钝化层,在二次钝化层上腐蚀出引线孔,并在引线孔中生长加厚金属,形成样片;把样片分割成面阵的管芯,并与读出电路进行互连;在衬底的背面制作背面光栅。本发明在每个像元都能同时引出两个波段红外信号的结构中,使得两个波段都有高的光栅耦合效率,提高器件的性能。
搜索关键词: 光栅 量子 红外探测器 制作方法
【主权项】:
一种双光栅双色量子阱红外探测器面阵的制作方法,包括如下步骤:(A)在一衬底上依次生长下接触层、下量子阱层、中间接触层、上量子阱层和上接触层;(B)在上接触层上制作正面光栅,并在正面光栅上沉积金属层,该金属层为上电极;(c)在金属层上向下刻蚀,形成隔离槽和上台面,刻蚀深度到达衬底内,使隔离槽两侧的像元完全隔离;(D)刻蚀每个隔离槽一侧的侧壁,刻蚀深度到达中间接触层内,形成中台面,刻蚀每个隔离槽另一侧的侧壁,刻蚀深度到达下接触层内,形成下台面;(E)在中台面上制作中间电极,在下台面上制作下电极,形成基片;(F)在基片的表面生长一层钝化层,在钝化层对应的中间电极、下电极和上电极处腐蚀出电极孔;(G)在钝化层的表面生长引出金属层,把中间电极、下电极和上电极引出到上台面;(H)在引出金属层的基片表面生长二次钝化层,在二次钝化层上腐蚀出引线孔,并在引线孔中生长加厚金属,形成样片;(I)把样片分割成面阵的管芯,并与读出电路进行互连;(J)对面阵的管芯进行衬底减薄;(K)在减薄后的衬底的背面制作背面光栅,完成制备。
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