[发明专利]双光栅双色量子阱红外探测器面阵的制作方法有效
申请号: | 201410112197.8 | 申请日: | 2014-03-25 |
公开(公告)号: | CN103904161A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 苏艳梅;种明 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种双光栅双色量子阱红外探测器面阵的制作方法,包括:在衬底上依次生长下接触层、下量子阱层、中间接触层、上量子阱层和上接触层;制作正面光栅,并制作上电极;刻蚀,形成隔离槽和上台面;刻蚀每个隔离槽一侧的侧壁,形成中台面,刻蚀每个隔离槽另一侧的侧壁,形成下台面;制作中间电极,制作下电极,形成基片;生长一层钝化层;生长引出金属层,把中间电极、下电极和上电极引出到上台面;生长二次钝化层,在二次钝化层上腐蚀出引线孔,并在引线孔中生长加厚金属,形成样片;把样片分割成面阵的管芯,并与读出电路进行互连;在衬底的背面制作背面光栅。本发明在每个像元都能同时引出两个波段红外信号的结构中,使得两个波段都有高的光栅耦合效率,提高器件的性能。 | ||
搜索关键词: | 光栅 量子 红外探测器 制作方法 | ||
【主权项】:
一种双光栅双色量子阱红外探测器面阵的制作方法,包括如下步骤:(A)在一衬底上依次生长下接触层、下量子阱层、中间接触层、上量子阱层和上接触层;(B)在上接触层上制作正面光栅,并在正面光栅上沉积金属层,该金属层为上电极;(c)在金属层上向下刻蚀,形成隔离槽和上台面,刻蚀深度到达衬底内,使隔离槽两侧的像元完全隔离;(D)刻蚀每个隔离槽一侧的侧壁,刻蚀深度到达中间接触层内,形成中台面,刻蚀每个隔离槽另一侧的侧壁,刻蚀深度到达下接触层内,形成下台面;(E)在中台面上制作中间电极,在下台面上制作下电极,形成基片;(F)在基片的表面生长一层钝化层,在钝化层对应的中间电极、下电极和上电极处腐蚀出电极孔;(G)在钝化层的表面生长引出金属层,把中间电极、下电极和上电极引出到上台面;(H)在引出金属层的基片表面生长二次钝化层,在二次钝化层上腐蚀出引线孔,并在引线孔中生长加厚金属,形成样片;(I)把样片分割成面阵的管芯,并与读出电路进行互连;(J)对面阵的管芯进行衬底减薄;(K)在减薄后的衬底的背面制作背面光栅,完成制备。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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