[发明专利]头戴式显示装置有效

专利信息
申请号: 201410113745.9 申请日: 2014-03-25
公开(公告)号: CN104865701B 公开(公告)日: 2017-04-26
发明(设计)人: 杨文助;李宗德 申请(专利权)人: 广达电脑股份有限公司
主分类号: G02B27/01 分类号: G02B27/01
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 史新宏
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种头戴式显示装置。头戴式显示装置包括微投影机、镜片、半反射膜、应用处理器及眼镜架。半反射膜覆盖于镜片。应用处理器控制微投影机投影虚像光束至半反射膜。眼镜架承载微投影机、镜片及应用处理器。
搜索关键词: 头戴式 显示装置
【主权项】:
一种头戴式显示装置,包括:一第一微投影机;一第一镜片;一第一半反射膜,覆盖于该第一镜片;一应用处理器,用以控制该第一微投影机投影一第一虚像光束至该第一半反射膜;以及一眼镜架,用以承载该第一微投影机、该第一镜片及该应用处理器,还包括:一第一眼部影像撷取装置,用以撷取一第一眼部影像;一第一调整装置;一特殊应用集成电路,用以根据该第一眼部影像取得一第一瞳孔位置,并根据该第一瞳孔位置控制该第一调整装置调整该第一虚像光束,使得该第一虚像光束经该第一半反射膜反射至该第一瞳孔位置,其中该特殊应用集成电路将该第一眼部影像进行一透视校正以产生一第一眼部正向影像,并根据该第一眼部影像取得一第一瞳孔位置,该特殊应用集成电路判断该第一虚像光束是否射入该第一瞳孔位置,若该第一虚像光束未射入该第一瞳孔位置,该特殊应用集成电路控制该第一调整装置调整该第一虚像光束,还包括:一第二微投影机;一第二镜片;一第二半反射膜,覆盖于该第二镜片;一第二眼部影像撷取装置,用以撷取一第二眼部影像;一第二调整装置;其中,该应用处理器控制该第二微投影机投影一第二虚像光束至该第二半反射膜,该特殊应用集成电路根据该第二眼部影像取得一第二瞳孔位置,并根据该第二瞳孔位置控制该第二调整装置调整该第二虚像光束,使得该第二虚像光束经该第二半反射膜反射至该第二瞳孔位置,其中该特殊应用集成电路将该第二眼部影像进行一透视校正以产生一第二眼部正向影像,并根据该第二眼部影像取得一第二瞳孔位置,该特殊应用集成电路判断该第二虚像光束是否射入该第二瞳孔位置,若该第二虚像光束未射入该第二瞳孔位置,该特殊应用集成电路控制该第二调整装置调整该第二虚像光束,其中该应用处理器根据一立体校正数据控制该第一微投影机及该第二微投影机投影该第一虚像光束及该第二虚像光束,当该第一虚像光束射入该第一瞳孔位置,且该第二虚像光束射入该第二瞳孔位置时,该应用处理器发出一讯问讯息询问是否呈现良好立体影像,若未呈现良好立体影像,该特殊应用集成电路控制该第一调整装置调整该第一虚像光束,并控制该第二调整装置调整该第二虚像光束,该特殊应用集成电路根据调整后的该第一虚像光束与该第一瞳孔位置决定一第一校正偏移值,并根据调整后的该第二虚像光束与该第二瞳孔位置决定一第二校正偏移值,该应用处理器纪录该第一校正偏移值及该第二校正偏移值。
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