[发明专利]一种用于制备陶瓷涂层的聚硅氮烷制备方法在审
申请号: | 201410114150.5 | 申请日: | 2014-03-26 |
公开(公告)号: | CN103937000A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 滕雅娣;盛永刚;孙晓龙;黄鑫龙 | 申请(专利权)人: | 沈阳化工大学 |
主分类号: | C08G77/62 | 分类号: | C08G77/62 |
代理公司: | 沈阳技联专利代理有限公司 21205 | 代理人: | 张志刚 |
地址: | 110142 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 一种用于制备陶瓷涂层的聚硅氮烷制备方法,涉及一种陶瓷涂层的制备方法,该方法使用系统脱敏法防止对水和空气敏感的原料甲基氢二氯硅烷的水解以保证反应的顺利进行,达到提高低聚物产品的质量和收率的目的,使用重复反应法令氨解反应进行得更完全彻底,达到低聚物分子量均匀的目的,使用热交联法使低聚物分子间交联成为高聚物,达到获得高分子量聚甲基氢硅氮烷(20万)的目的。本发明所采取的技术方案,使得产品的分子量由低聚物的2000-4000增长到200000,呈现白色固体形态,能溶解于常用有机溶剂,适于制备涂料。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 制备 陶瓷 涂层 聚硅氮烷 方法 | ||
【主权项】:
一种用于制备陶瓷涂层的聚硅氮烷制备方法,其特征在于:所述方法包括以下过程:首先将反应系统预先进行脱敏处理,即首先排除系统中的空气与水蒸汽,将高纯氮气经过干燥装置进入反应器,再经其它装置排出,保持0.5~1小时;其次进料过程不与空气接触,将经过精馏的原料甲基氢二氯硅烷和溶剂正己烷在负压作用下依次进入反应器;整个反应过程中保持反应体系与空气和水蒸汽的隔离,反应在0℃下进行,直至体系显碱性,并始终保持氨气的流通。
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