[发明专利]磁记录介质的制造方法有效
| 申请号： | 201410116219.8 | 申请日： | 2014-03-26 |
| 公开（公告）号： | CN104103292B | 公开（公告）日： | 2017-06-16 |
| 发明（设计）人： | 冈部健彦;藤克昭 | 申请（专利权）人： | 昭和电工株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84;G11B5/725 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所11247 | 代理人： | 李照明,段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层、及润滑层的磁记录介质的制造方法。所述润滑层的形成包含采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体。所述第1润滑剂的分子量低于所述第2润滑剂的分子量。所述第1润滑剂的极性高于所述第2润滑剂的极性。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种在被积层体上依次形成磁记录层、保护层及润滑层的磁记录介质的制造方法，其特征在于：所述润滑层的形成包含：采用汽相润滑成膜方法，以使形成了所述保护层后的被积层体不与大气接触的方式，将第1润滑剂涂敷至所述被积层体；及在涂敷了所述第1润滑剂后，采用汽相润滑成膜方法，以使所述被积层体不与大气接触的方式，将第2润滑剂涂敷至所述被积层体，其中：所述第1润滑剂的分子量高于所述第2润滑剂的分子量；所述第1润滑剂的极性低于所述第2润滑剂的极性；及将所述第2润滑剂涂敷至所述被积层体的步骤为，将所述被积层体上所涂敷的所述第1润滑剂的一部分置换为所述第2润滑剂的步骤。
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