[发明专利]照射装置在审

专利信息
申请号: 201410116828.3 申请日: 2014-03-26
公开(公告)号: CN104075253A 公开(公告)日: 2014-10-01
发明(设计)人: 田中大作;山田一吉;酒井雅宽;石飞裕和 申请(专利权)人: 岩崎电气株式会社
主分类号: F21V14/04 分类号: F21V14/04;F21Y103/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 杨黎峰;金丹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种即使扩大照射区域也能实现小型化的照射装置。照射装置(1)具有作为线状光源的紫外线灯(10)、分别覆盖所述紫外线灯的上侧和端部的主反射板(16)和侧面反射板(18)、和设在所述紫外线灯(10)和工件(2)之间的四角筒状的辅助反射板(14)。在所述辅助反射板与所述紫外线灯之间的所述紫外线灯的两方的端部(10A)侧分别设有第一反射板(40),该第一反射板的下端(40B)比上端(40A)更靠近所述紫外线灯的中心(O),用于向所述主反射板和所述侧面反射板反射所述紫外线灯的光,所述紫外线灯的端部侧的所述辅助反射板的基端(14A)可配置在所述第一反射板的位置。
搜索关键词: 照射 装置
【主权项】:
一种照射装置,其特征在于,具有:线状光源、覆盖所述线状光源的上侧的主反射面、在所述线状光源的端部呈面对配置的一对侧面反射面、以及设置在所述线状光源与照射区域之间的呈四角筒状的辅助反射面,在所述辅助反射面与所述线状光源之间的所述线状光源的两端侧分别设有第一反射面,该第一反射面的下端比上端更靠近所述线状光源的中心,所述第一反射面用于向所述主反射面和所述侧面反射面反射所述线状光源的光,所述线状光源的两端侧的所述辅助反射面的基端能够配置在所述第一反射面的下端的位置。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于岩崎电气株式会社,未经岩崎电气株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410116828.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top