[发明专利]TiWN硬质纳米结构薄膜及制备方法有效
申请号: | 201410118327.9 | 申请日: | 2014-03-27 |
公开(公告)号: | CN103898457A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 喻利花;许俊华;董鸿志 | 申请(专利权)人: | 江苏科技大学 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/06 |
代理公司: | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人: | 楼高潮 |
地址: | 212003 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本文发明公开了一种TiWN硬质纳米结构薄膜及制备方法,其特征在于是该薄膜是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的,薄膜分子式表示为Ti(W,N),厚度在2-3μm。沉积时,真空度优于3.0×10-5Pa时,以氩气起弧,氮气为反应气体进行沉积,溅射气压0.3Pa,氩氮流量比10:(1-3)。Ti靶溅射功率230-280W,W靶溅射功率为0-120W。所得硬质涂层综合具备了高硬度,高耐磨性的优良特点。 | ||
搜索关键词: | tiwn 硬质 纳米 结构 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种TiWN硬质纳米结构薄膜,其特征在于是采用双靶共焦射频反应溅射法沉积在硬质合金或陶瓷基体上的,薄膜的分子式表示为Ti(W,N),薄膜厚度在2‑3μm,Ti靶溅射功率230‑280W,W靶溅射功率0‑120W;当Ti靶功率为250W,W靶为90W时,薄膜硬度高达30.67GPa,摩擦系数和磨损率分别为0.531和3.662×10‑8mm3·N‑1mm‑1。
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