[发明专利]半导体设备工艺加工异常处理的方法及系统有效

专利信息
申请号: 201410119427.3 申请日: 2014-03-27
公开(公告)号: CN104952761B 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 李娟娟 申请(专利权)人: 北京北方华创微电子装备有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 李芙蓉
地址: 100176 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种半导体设备工艺加工异常处理的方法及系统。其中方法包括如下步骤:检测工艺加工过程是否出现异常;当工艺加工过程出现异常时,停止当前工艺步骤,并抛出阻塞型报警;根据所选择的预设异常处理模式执行相应的操作;其中预设异常处理模式为多个,不同的预设异常处理模式包括不同的操作步骤组合。其改变了传统技术中必须由工艺加工人员手动处理的单一模式,提高了工艺异常后的操作流程的自动性和方便性,同时能够避免不必要的人为错误。
搜索关键词: 半导体设备 工艺 加工 异常 处理 方法 系统
【主权项】:
1.一种半导体设备工艺加工异常处理的方法,其特征在于,包括以下步骤:检测工艺加工过程是否出现异常;当所述工艺加工过程出现异常时,停止当前工艺步骤,并抛出阻塞型报警;根据所选择的预设异常处理模式执行相应的操作;所述预设异常处理模式为多个,不同的所述预设异常处理模式包括不同的操作步骤组合;所述预设异常处理模式包括第一预设异常处理模式,第二预设异常处理模式,第三预设异常处理模式,第四预设异常处理模式,第五预设异常处理模式,第六预设异常处理模式,第七预设异常处理模式,第八预设异常处理模式,第九预设异常处理模式,以及第十预设异常处理模式中的一种以上的组合;所述根据所选择的预设异常处理模式执行相应的操作,包括以下步骤:当所选择的预设异常处理模式为第一预设异常处理模式时,控制继续执行工艺表单中的下一工艺步骤;当所选择的预设异常处理模式为第二预设异常处理模式时,控制重新执行当前工艺步骤;当所选择的预设异常处理模式为第三预设异常处理模式时,控制继续执行当前工艺步骤;当所选择的预设异常处理模式为第四预设异常处理模式时,控制停止工艺加工过程,等待处理;当所选择的预设异常处理模式为第五预设异常处理模式时,控制执行解除卡盘吸附的工艺步骤,并按工艺过程正常结束传出物料;当所选择的预设异常处理模式为第六预设异常处理模式时,控制执行解除卡盘吸附的工艺步骤,并按指定路径传出物料;当所选择的预设异常处理模式为第七预设异常处理模式时,控制执行解除卡盘吸附的工艺步骤,并将物料直接传输回原点;当所选择的预设异常处理模式为第八预设异常处理模式时,控制按工艺过程正常结束传出物料;当所选择的预设异常处理模式为第九预设异常处理模式时,控制按指定路径传出物料;当所选择的预设异常处理模式为第十预设异常处理模式时,控制将物料直接传输回原点。
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