[发明专利]表面处理方法及其产品有效
| 申请号： | 201410121187.0 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN104942443B | 公开（公告）日： | 2017-01-25 |
| 发明（设计）人： | 杨升攀 | 申请（专利权）人： | 汉达精密电子（昆山）有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/359 | 分类号： | B23K26/359;B44C1/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明揭示一种表面处理方法及其产品，该方法包括将需要的图案导入镭射机，然后采用镭射机对产品的表面进行第一次镭射处理；所述第一次镭射处理完后，缩短产品与镜头的距离，再进行第二次镭射处理，所述第二次镭射处理采用的图案与所述第一次镭射处理的相同，所述第二次镭射完毕后，产品表面将形成条状干涉纹。该产品为经所述表面处理方法处理后产生的产品。该方法能够在各种材料表面形成图案，且不受材质的影响；改变第二次镭射产品离镜头的距离可以改变镭射纹路效果；第二次镭射时移动产品的位置，所得镭射纹路也随之移动；采用此方法形成的图案与产品的结合性好、持久性好、不会脱落。得到的产品外观更加精致、质感更加独特且更加抗磨防腐。 | ||
| 搜索关键词： | 表面 处理 方法 及其 产品 | ||
【主权项】：
一种表面处理方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：将需要的图案导入镭射机，然后采用镭射机对产品的表面进行第一次镭射处理；所述第一次镭射处理完后，缩短产品与镜头的距离，再进行第二次镭射处理，所述第二次镭射处理采用的图案与所述第一次镭射处理的相同，所述第二次镭射完毕后，产品表面形成条状干涉纹；所述第二次镭射处理与所述第一次镭射处理相比，产品与镭射机间缩短的距离小于或等于2000mm。
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