[发明专利]一种带有深N阱的NP型CMOS雪崩光电二极管有效
申请号: | 201410122853.2 | 申请日: | 2014-03-28 |
公开(公告)号: | CN103887362A | 公开(公告)日: | 2014-06-25 |
发明(设计)人: | 王巍;王川;颜琳淑;胡洁;王婷;杜超雨;王振;袁军 | 申请(专利权)人: | 重庆邮电大学 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/0352 |
代理公司: | 重庆市恒信知识产权代理有限公司 50102 | 代理人: | 刘小红 |
地址: | 400065 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | 本发明公开了一种带有深N阱的NP型CMOS雪崩光电二极管,包括P型衬底、设置于P型衬底上的N阱层及雪崩区,所述雪崩区设置于所述P型衬底和N阱之间构成PN结,在P型衬底和雪崩区之间还设置有光吸收层,所述光吸收层为设置于P型衬底层上的深N阱,所述深N阱的掺杂浓度大于P型衬底层的掺杂浓度;本发明提高了雪崩光电二极管器件的速率、频率响应和带宽。 | ||
搜索关键词: | 一种 带有 np cmos 雪崩 光电二极管 | ||
【主权项】:
一种带有深N阱的NP型CMOS雪崩光电二极管,包括P型衬底(21)、设置于P型衬底(21)上的N阱层及雪崩区(23),所述雪崩区(23)设置于所述P型衬底(21)和N阱层之间构成PN结,其特征在于:在P型衬底(21)和雪崩区(23)之间还设置有光吸收层(22),所述光吸收层(22)为设置于P型衬底层(21)上的深N阱,所述深N阱的掺杂浓度大于P型衬底(21)的掺杂浓度;所述P型衬底(21)上还设置有电极VR、VDNW和P衬底电极(27),其中电极VR与所述雪崩区(23)的PN结相连接并提供反向雪崩击穿电压,所述VDNW偏置电极与光吸收层(22)的深N阱相连接并提供偏置电压,其中在P衬底电极(27)上还设置有P+接触面(24)和N+接触面(25)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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