[发明专利]一种富集10B的碳化硼中子吸收屏蔽材料的制备方法无效

专利信息
申请号: 201410124948.8 申请日: 2014-03-31
公开(公告)号: CN103936422A 公开(公告)日: 2014-07-23
发明(设计)人: 吴旭光;曹宝胜;韩晓辉;韩玉成 申请(专利权)人: 大连博恩坦科技有限公司
主分类号: C04B35/563 分类号: C04B35/563;C04B35/622
代理公司: 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 代理人: 梁焱;陈磊
地址: 116113 辽宁*** 国省代码: 辽宁;21
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及防护和控制材料技术领域,具体涉及一种富集10B的碳化硼中子吸收屏蔽材料的制备方法。本发明是将97~99质量份的富集10B碳化硼粉体与1~3质量份的胶黏剂以去离子水为介质混合形成混合物料烘干,将烘干后物料放入真空烧结炉内进行有压或无压烧结,控制炉内真空度达到5~40Pa,得到密度为1.8~2.48g/cm3的富集10B碳化硼中子吸收屏蔽材料。本发明的碳化硼粉末压制的制品,中子吸收能力大大提高,在反应堆内使用的过程中,不会引入其他杂质,能够保证反应堆的安全运行和使用寿命。
搜索关键词: 一种 富集 sup 10 碳化 中子 吸收 屏蔽 材料 制备 方法
【主权项】:
一种富集10B的碳化硼中子吸收屏蔽材料的制备方法,其特征在于按照以下步骤进行:(1)将97~99质量份的富集10B碳化硼粉体与1~3质量份的胶黏剂以去离子水为介质混合形成混合物料,将混合后的物料放入烘箱中烘干;(2)将烘干后的物料装入冷等静压模具中,于50~300Mpa的压力下压制成坯料;(3)将坯料放入石墨模具中,再放入真空烧结炉内进行无压烧结,控制炉内真空度达到5~40Pa,在15min内由室温升温至450℃,再在15min内由450℃升温继续至800℃,再在30min内由800℃继续升温至1400℃,再在40min内由1400℃继续升温至1950℃,最后于1950~2200℃保温5~30min,随炉冷却至室温,得到密度为1.8~2.48g/cm3的富集10B碳化硼中子吸收屏蔽材料。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于大连博恩坦科技有限公司,未经大连博恩坦科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410124948.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top