[发明专利]一种添加冗余图形的方法有效
申请号: | 201410125546.X | 申请日: | 2014-03-31 |
公开(公告)号: | CN103855044A | 公开(公告)日: | 2014-06-11 |
发明(设计)人: | 倪晟;于世瑞;毛智彪;张瑜 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | H01L21/60 | 分类号: | H01L21/60 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;林彦之 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种添加冗余图形的方法,包括:将版图分割成若干相同尺寸的子区域,计算每个子区域的原始密度值;将子区域分为若干组,将原始密度值相同或相近的子区域分为一组;选择要添加冗余图形的组;根据密度值,计算每个组中的子区域所要添加的冗余图形的尺寸;设定一个缩放比例值,将同一组的子区域内部的各个图形均以该缩放值进行缩放;计算子区域缩放后的密度值;计算子区域的原始密度值与缩放后的密度值之间的密度差;根据密度差的绝对值来调整冗余图形的尺寸;冗余图形的尺寸随所述密度差值的绝对值的增大而减小。本发明的方法,可以确保晶圆密度分布均匀,减小了版图和晶圆的密度分布差异,提高了平坦化程度。 | ||
搜索关键词: | 一种 添加 冗余 图形 方法 | ||
【主权项】:
一种添加冗余图形的方法,其特征在于,包括:步骤S01:将版图分割成若干相同尺寸的子区域,计算每个所述子区域的原始密度值;步骤S02:将所述子区域分为若干组,其中,将所述原始密度值相同或相近的所述子区域分为一组;步骤S03:选择要添加冗余图形的所述组;步骤S04:根据所述原始密度值,初步计算每个所述组中的所述子区域要添加的冗余图形的尺寸;步骤S05:设定一个缩放值,将同一个所述组中的所述子区域内部的各个图形均以所述缩放值进行缩放;步骤S06:计算所述子区域缩放后的密度值;步骤S07:计算所述子区域的所述原始密度值与所述缩放后的密度值之间的密度差;步骤S08:根据所述密度差的绝对值来调整所述冗余图形的尺寸;其中,所述冗余图形的尺寸随所述密度差值的绝对值的增大而减小。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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