[发明专利]绝缘栅双极型晶体管有效

专利信息
申请号: 201410127688.X 申请日: 2014-04-01
公开(公告)号: CN103915489B 公开(公告)日: 2017-01-04
发明(设计)人: 王春早;马海平;张斌 申请(专利权)人: 绍兴文理学院
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/08;H01L29/06
代理公司: 杭州裕阳专利事务所(普通合伙)33221 代理人: 应圣义
地址: 312000 *** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种绝缘栅双极型晶体管,包括第一基区、第二基区、发射区、栅氧化层、缓冲区、第一集电极区、第二集电极区以及第三集电极区。其中,第二基区、发射区以及栅氧化层依次设置于第一基区的一侧,其中缓冲区、第一集电极区、第二集电极区以及第三集电极区依次设置于第一基区的另一侧。且第二基区、第一集电极区以及第二集电极区三者的导电类型与第一基区的导电类型相反,而发射区、缓冲区以及第三集电极区三者的导电类型与第一基区的导电类型相同。第三集电极区的最大厚度等于第二集电极区的最大厚度,且缓冲区、第一集电极区、第三集电极区三者掺杂浓度逐渐增加,形成双极型晶体管结构。
搜索关键词: 绝缘 栅双极型 晶体管
【主权项】:
一种绝缘栅双极型晶体管,其特征在于,包括:第一基区;第二基区,设置于所述第一基区的一侧,所述第二基区的导电类型与所述第一基区的导电类型相反;发射区,设置于所述第二基区远离所述第一基区的一侧,所述发射区的掺杂浓度高于所述第一基区的掺杂浓度,且所述发射区的导电类型与所述第一基区的导电类型相同;栅氧化层,连接所述第一基区、第二基区以及发射区;缓冲区,设置于所述第一基区的另一侧,所述缓冲区的掺杂浓度高于所述第一基区的掺杂浓度,且所述缓冲区的导电类型与所述第一基区的导电类型相同;第一集电极区,设置于所述缓冲区远离所述第一基区的一侧,所述第一集电极区的导电类型与所述缓冲区的导电类型相反;第二集电极区,设置于所述第一集电极区远离所述缓冲区的一侧,所述第二集电极区的掺杂浓度高于所述第一集电极区的掺杂浓度,且所述第二集电极区的导电类型与所述第一集电极区的导电类型相同;第三集电极区,设置于所述第二集电极区,且所述第三集电极区的导电类型与所述第二集电极区的导电类型相反,第三集电极区在第二集电极区上通过扩散的形式得到;其中,所述第三集电极区的最大厚度等于所述第二集电极区的最大厚度,且所述缓冲区、第一集电极区、第三集电极区三者掺杂浓度逐渐增加,形成双极型晶体管结构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于绍兴文理学院,未经绍兴文理学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410127688.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top