[发明专利]氟硼荧光染料及其制备方法和应用有效
申请号: | 201410129124.X | 申请日: | 2014-04-01 |
公开(公告)号: | CN103937287A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 郝二宏;高乃勋;焦莉娟 | 申请(专利权)人: | 安徽师范大学 |
主分类号: | C09B57/00 | 分类号: | C09B57/00;C09K11/06;G01N21/64 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 11283 | 代理人: | 孙向民;董彬 |
地址: | 241002 安徽省芜*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种氟硼荧光染料及其制备方法和应用,其中,所述氟硼荧光染料的结构如式(III)或式(IV)所示,式(III)和式(IV)中,R1为H或卤素;R2为CN;R7、R8各自独立地为H或C1-C6的烷基,R9选自H、C1-C6的烷基或C1-C6的烷氧基;V为CH或N,且在V为N时,N上无取代基团。本发明提供的氟硼荧光染料以及通过该发明提供的方法制备的氟硼荧光染料最大荧光发射波长在518-600nm之间,同时其还具有优异的荧光量子产率和优异的Stokes位移,说明其在荧光标记和生物成像等生物分析领域具有良好的应用前景,同时该制备方法步骤简单,且原料易得。 | ||
搜索关键词: | 荧光 染料 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】:
一种氟硼荧光染料,其特征在于,所述氟硼荧光染料的结构如式(III)或式(IV)所示, 式(III)和式(IV)中,R1为H或卤素;R2为CN;R7、R8各自独立地为H或C1‑C6的烷基,R9选自H、C1‑C6的烷基或C1‑C6的烷氧基;V为CH或N,且在V为N时,N上无取代基团。
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