[发明专利]胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法有效
| 申请号： | 201410129403.6 | 申请日： | 2014-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN104099025B | 公开（公告）日： | 2019-08-20 |
| 发明（设计）人： | 松井晴信;原田大实;竹内正树 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C09K3/14 | 分类号： | C09K3/14 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 李英 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及胶态二氧化硅抛光组合物和使用其制造合成石英玻璃基板的方法。本发明提供一种抛光组合物，其包含球形二氧化硅颗粒和缔合二氧化硅颗粒的胶体分散体作为研磨料。当在抛光合成石英玻璃基板的步骤中使用时，该抛光组合物确保比常规胶态二氧化硅更高的抛光速率，并且有效防止基板表面上的任何微小缺陷，从而提供具有高平滑度的基板。该抛光组合物可作为二氧化铈的替代抛光组合物用于抛光经研磨的表面。 | ||
| 搜索关键词： | 二氧化硅 抛光 组合 使用 制造 合成 石英玻璃 方法 | ||
【主权项】：
1.一种胶态二氧化硅抛光组合物，其包含含有球形胶态二氧化硅颗粒和缔合胶态二氧化硅颗粒的胶体溶液,其中，球形胶态二氧化硅颗粒的平均一次粒径D1A在20－60nm的范围内，缔合胶态二氧化硅颗粒的平均一次粒径D1B在70－200nm的范围内，球形胶态二氧化硅颗粒的缔合度(n1)在1.0－1.5的范围内，缔合胶态二氧化硅颗粒的缔合度(n2)在2.0－3.5的范围内。
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