[发明专利]一种亲水性的羟基多氯联苯分子印迹固相萃取填料及其制备和应用在审
申请号: | 201410132635.7 | 申请日: | 2014-04-03 |
公开(公告)号: | CN104151489A | 公开(公告)日: | 2014-11-19 |
发明(设计)人: | 秦伟;赵焱;梁荣宁;苏阳 | 申请(专利权)人: | 中国科学院烟台海岸带研究所 |
主分类号: | C08F220/56 | 分类号: | C08F220/56;C08F222/14;C08F226/06;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/285;B01J20/30 |
代理公司: | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人: | 周秀梅;李颖 |
地址: | 264003 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明属于羟基多氯联苯分离富集技术领域,具体涉及一种亲水性的羟基多氯联苯分子印迹固相萃取填料及其制备和应用。填料为以羟基联苯类化合物作为虚拟模板分子,在亲水性功能单体、亲水性交联剂、致孔剂和引发剂的存在下发生聚合反应,反应完成后去除虚拟模板分子获得亲水性的、高选择性的羟基多氯联苯分子印迹固相萃取填料;制备为将虚拟模板分子、亲水性的功能单体和交联剂通过沉淀聚合反应制得羟基多氯联苯分子印迹聚合物微球;将所得印迹聚合物填充于聚丙烯固相萃取小柱,制得羟基多氯联苯分子印迹固相萃取小柱。本发明采用虚拟模板法合成分子印迹聚合物,在保证印迹效果的同时,解决了模板渗漏问题,避免大量有毒有害羟基多氯联苯的使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 亲水性 羟基 多氯联苯 分子 印迹 萃取 填料 及其 制备 应用 | ||
【主权项】:
一种亲水性的羟基多氯联苯分子印迹固相萃取填料,其特征在于:以羟基联苯类化合物作为虚拟模板分子,与亲水性功能单体、亲水性交联剂、致孔剂和引发剂混合所得沉淀聚合物,沉淀聚合物去除虚拟模板分子获得亲水性的、高选择性的羟基多氯联苯分子印迹固相萃取填料;所述羟基联苯类虚拟模板分子为4,4‑二羟基联苯、2,2‑二羟基联苯、4‑羟基联苯、2‑羟基联苯、3‑羟基联苯中的一种或几种;所述亲水性功能单体为丙烯酰胺、2,6‑二氨基吡啶、2‑乙烯基吡啶(2‑VP)、4‑乙烯基吡啶(4‑VP)中的一种或几种;所述亲水性交联剂为乙二醇双甲基丙烯酸酯(EGDMA)、丙烯酸三甲氧基丙烷三甲基酯(TRIM)、N,N‑亚甲基双丙烯酰胺中的一种或几种;所述引发剂为2,2’‑偶氮二异丁腈(AIBN)或2,2’‑偶氮二(2,4‑二甲基戊腈)(ADVN);所述致孔剂为乙腈、甲苯、氯仿、二氯甲烷、正己烷或环己烷。
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