[发明专利]一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法在审
| 申请号： | 201410135481.7 | 申请日： | 2014-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN103923340A | 公开（公告）日： | 2014-07-16 |
| 发明（设计）人： | 万锕俊;黄然 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C08J9/26 | 分类号： | C08J9/26;C08L25/06;C08L33/12 |
| 代理公司： | 上海科盛知识产权代理有限公司 31225 | 代理人： | 蒋亮珠 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法，将聚乳酸与目标高分子材料共混加工后，通过降解除去材料内的聚乳酸区域，保留目标高分子，以得到开孔联通结构的多孔高分子材料的技术，其中目标高分子包括聚酯，聚醚，脂肪族聚合物等所有与聚乳酸有良好共混性及共同加工性能的高分子材料。与现有技术相比，本发明具有制备过程温和，加工性能优异的特点，在共混物加工成型后，多孔结构的制备不再涉及改变高分子材料自身的形态和性质。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 乳酸 降解 刻蚀 制备 多孔 高分子材料 方法 | ||
【主权项】：
一种利用聚乳酸降解刻蚀制备多孔高分子材料的方法，其特征在于，将聚乳酸与目标高分子材料共混加工后，通过降解除去材料内的聚乳酸区域，保留目标高分子，以得到开孔联通结构的多孔高分子材料的技术，其中目标高分子包括聚酯，聚醚，脂肪族聚合物等所有与聚乳酸有良好共混性及共同加工性能的高分子材料。
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