[发明专利]磁控溅射镀膜系统有效
申请号: | 201410138095.3 | 申请日: | 2014-04-08 |
公开(公告)号: | CN103938168A | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 张迅;张伯伦;李景艳;易伟华 | 申请(专利权)人: | 江西沃格光电股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 生启 |
地址: | 338004 江西省新余*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | 一种磁控溅射镀膜系统,包括进片室、进片缓冲室、进片过渡室、溅射室、出片过渡室、出片缓冲室、出片室、基片架及分别设于该七个室中的七个传动装置,每个传动装置包括多个平行设置的传动轴及套设于每个传动轴上的多个第一橡胶圈;基片架包括基片架主体和多个第二橡胶圈,基片架主体包括框架、安装杆及可滑动地设置于框架上的多个固定杆,多个第二橡胶圈设置于安装杆上;待镀膜基片放置于基片架的安装杆上并与第二橡胶圈抵接,且夹持于多个固定杆之间;基片架放置于传动轴上并与第一橡胶圈抵接,基片架随传动轴的转动而带动待镀膜基片水平运行。使用该磁控溅射镀膜系统进行镀膜,良率较高。 | ||
搜索关键词: | 磁控溅射 镀膜 系统 | ||
【主权项】:
一种磁控溅射镀膜系统,包括进片室、进片缓冲室、进片过渡室、溅射室、出片过渡室、出片缓冲室和出片室,其特征在于,还包括七个传动装置及基片架,其中,所述七个传动装置分别设置于所述进片室、进片缓冲室、进片过渡室、溅射室、出片过渡室、出片缓冲室和出片室中,每个所述传动装置包括多个平行设置的传动轴及套设于每个所述传动轴上的多个第一橡胶圈;所述基片架包括基片架主体和多个第二橡胶圈,所述基片架主体包括框架、固定设置于所述框架上的安装杆及可滑动地设置于所述框架上的多个固定杆,所述多个第二橡胶圈设置于所述安装杆上;待镀膜基片放置于所述基片架的安装杆上并与所述第二橡胶圈抵接,且所述待镀膜基片夹持于所述多个固定杆之间;所述基片架放置于所述传动轴上并与所述第一橡胶圈抵接,且所述基片架随所述传动轴的转动而带动所述待镀膜基片依次沿所述进片室、进片缓冲室、进片过渡室、溅射室、出片过渡室、出片缓冲室和出片室水平运行。
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