[发明专利]一种生物礁储层雕刻方法有效
| 申请号： | 201410138419.3 | 申请日： | 2014-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN104977611B | 公开（公告）日： | 2018-08-17 |
| 发明（设计）人： | 刘国萍;游瑜春;冯琼 | 申请（专利权）人： | 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司石油勘探开发研究院 |
| 主分类号： | G01V1/30 | 分类号： | G01V1/30 |
| 代理公司： | 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 | 代理人： | 吴大建;刘华联 |
| 地址： | 100728 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种生物礁储层雕刻方法，其包括：储层识别步骤，基于单井相研究，确定生物礁储层的发育层段；顶底刻画步骤，基于发育层段，根据生物礁储层的地震剖面和波阻抗剖面，对生物礁储层的顶底进行刻画；顶底约束步骤，根据生物礁储层的形态、地震相数据、沉积相分析和古地貌分析，获得生物礁储层在平面发育的有利地带，并用其约束顶底刻画，得到精细刻画的顶底；内幕结构确定步骤，基于精细刻画的顶底，通过调整可视化参数对生物礁储层进行可视化分析，得到生物礁储层的内幕结构和几何参数。本方法能够对生物礁储层内幕结构进行刻画，从而实现对生物礁储层更为全面、准确的雕刻。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 生物 礁储层 雕刻 方法 | ||
【主权项】：
1.一种生物礁储层雕刻方法，其特征在于，所述方法包括：储层识别步骤，基于单井相研究，建立一套包括测井曲线特征和地震反射结构特征的微相识别模式，从而确定生物礁储层的发育层段；顶底刻画步骤，基于生物礁储层的发育层段，根据所述生物礁储层的地震剖面和波阻抗剖面，对所述生物礁储层的顶底进行刻画，从而确定所述生物礁储层的顶底；顶底约束步骤，根据生物礁储层的形态、地震相数据、沉积相分析和古地貌分析，获得生物礁储层在平面发育的有利地带，并用所述有利地带约束生物礁储层的顶底刻画，得到精细刻画的顶底；内幕结构确定步骤，基于精细刻画的顶底，通过调整可视化参数对所述生物礁储层进行可视化分析，得到生物礁储层的内幕结构和几何参数，实现对生物礁储层的全面雕刻。
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