[发明专利]一种优化光掩模图案制备参数的方法

摘要

本发明提供一种优化光掩模图案制备参数的方法，包括：提供光掩模，所述光掩模包括主图案区和至少两个测试图案；其中一个测试图案采用的条件参数与主图案区的条件参数相同；通过对比若发现采用与所述主图案区相同条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性比采用其他条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性更好，则继续采用原来的条件参数制备下一个光掩模主图案区；若发现采用其他条件参数制备的测试图案中有一测试图案的特征尺寸均匀性相对于采用与所述主图案区相同条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性更好，则采用该优化的条件参数制备下一个光掩模主图案区。本发明提供的优化方法可以方便快速的优化出曝光参数，优化周期短，优化操作简单。

主权项

1.一种优化光掩模图案制备参数的方法，其特征在于，所述优化光掩模图案制备参数的方法至少包括：提供一光掩模，所述光掩模包括利用设定的条件参数形成的主图案区、及位于所述主图案区边缘外的空白区域中的至少两个测试图案；其中一个测试图案采用的条件参数与主图案区的条件参数相同；测试所述测试图案的特征尺寸均匀性，然后对比与所述主图案区具有相同条件参数的测试图案与采用其他条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性；若发现采用与所述主图案区相同条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性比采用其他条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性更好，则继续采用原设定的条件参数制备下一个光掩模主图案区；若发现采用其他条件参数制备的测试图案中有一组条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性相对于采用与所述主图案区相同条件参数制备的测试图案的特征尺寸均匀性更好，则采用该优化的条件参数制备下一个光掩模主图案区。