[发明专利]一种生成pattern的方法及一种RIP

摘要

本发明提供了一种生成pattern的方法及一种RIP，该方法包括：S1：根据pattern资源计算出pattern cell的平铺位置和pattern cell的平铺次数；S2：判断是否同时满足pattern为非透明pattern且每个pattern cell的大小没有超过预设值，如果是，则执行S3，否则执行S4；S3：将每个pattern cell直接展开，根据所述pattern cell的平铺位置和所述pattern cell的平铺次数进行平铺；S4：创建所有pattern cell共用的光栅化页面，对每个pattern cell进行透明处理，根据所述pattern cell的平铺位置和所述pattern cell的平铺次数进行平铺。通过本发明提供的一种生成pattern的方法及一种RIP，能够降低内存的使用量。

主权项

1.一种生成pattern的方法，其特征在于，该方法包括：S1：根据pattern资源计算出pattern cell的平铺位置和pattern cell的平铺次数，具体包括：S11：获取pattern资源；S12：从所述pattern资源中获取并保存pattern cell的转换矩阵CTM；S13：根据所述CTM计算出pattern cell的平铺位置；S14：根据所述pattern cell的平铺位置和所述pattern资源中pattern cell的平铺间隔计算出pattern cell的平铺次数；S2：判断是否同时满足pattern为非透明pattern且每个pattern cell的大小没有超过预设值，如果是，则执行S3，否则执行S4；S3：将每个pattern cell直接展开，根据所述pattern cell的平铺位置和所述pattern cell的平铺次数进行平铺；S4：创建所有pattern cell共用的光栅化页面，对每个pattern cell进行透明处理，根据所述pattern cell的平铺位置和所述pattern cell的平铺次数进行平铺，包括：S41：获取当前输出页面的宽高，根据该输出页面的宽高对pattern cell的边界进行剪裁；S42：根据剪裁后的pattern cell的边界和该pattern cell对应的CTM，计算pattern cell相对于子页面的偏移量，将该偏移量设置到CTM中；S43：创建透明组链表，设置pattern cell对应项的透明参数并将该pattern cell对应项加入透明组链表中；S44：根据透明组链表设置pattern cell共用的光栅化页面的透明参数；S45：根据CTM中pattern cell相对于子页面的原点的偏移量和所述光栅化页面中的透明参数生成pattern cell点阵；S46：根据所述CTM和所述pattern cell点阵对pattern cell进行平铺。