[发明专利]化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410143772.0 申请日: 2014-04-10
公开(公告)号: CN104098269A 公开(公告)日: 2014-10-15
发明(设计)人: 奥利弗·霍赫赖因;英格·布格尔;伊姆加德·威斯腾伯格;约亨·阿尔克马佩尔;格德·鲁达什;卡塔琳娜·阿尔特;戈登·基斯尔;京特·保勒斯 申请(专利权)人: 肖特公开股份有限公司
主分类号: C03C3/093 分类号: C03C3/093;C03C3/095;C03C3/097;C03C3/118
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李楠;安翔
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要: 发明提供一种化学性预加应力的高刮划容忍度玻璃元件及其制造方法,其在化学性预加应力之后除了具有针对压应力和离子交换深度的高数值之外还具有突出的刮划容忍度。该玻璃元件的玻璃含有SiO2、Al2O3、B2O3、ZrO2和Na2O等作为组成部分,其中,氟化物的含量小于0.2%、优选小于0.05%,其中,在玻璃元件的表面上,能至少部分地用钾离子来交换钠离子,从而能在表面上产生用来给玻璃元件化学性预加应力的压应力区。
搜索关键词: 化学性 应力 高刮划 容忍度 玻璃 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
一种带有以下以摩尔百分比计的、玻璃元件(1)的玻璃(2)的摩尔组成的组成部分的玻璃元件(1):56‑70%SiO2,10.5‑16%Al2O3,2.5‑9%B2O3,10‑15%Na2O,0‑5%K2O,0‑6%MgO,0.1–2.1%ZrO2,0–2.1%TiO2,0–0.1%CeO2,0–0.3%SnO2,0–1.5%P2O5,0–2%ZnO,0–<0.2%Li2O,以及0–2%的、优选0–1%的其他组分,其中,氟化物的含量小于0.2%、优选小于0.05%,其中,在所述玻璃元件(1)的表面(3)上,能至少部分地用钾离子来交换钠离子,从而能在所述表面(3)上产生用来给所述玻璃元件化学性预加应力的压应力区(5)。
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