[发明专利]化学还原制备镀锡铜粉的方法有效
申请号: | 201410145959.4 | 申请日: | 2014-04-11 |
公开(公告)号: | CN103894603A | 公开(公告)日: | 2014-07-02 |
发明(设计)人: | 方斌;郑惠文;赵望;杨存忠 | 申请(专利权)人: | 上海理凯材料科技有限公司 |
主分类号: | B22F1/02 | 分类号: | B22F1/02;C23C18/52 |
代理公司: | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人: | 罗大忱 |
地址: | 200237 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种化学还原制备镀锡铜粉的方法,其特征在于,包括如下步骤:利用在水中能电离出很低浓度锡离子或亚锡离子的锡盐,被化学还原剂还原成锡单质并沉积包覆于铜粉表面,获得核壳结构的所述的镀锡铜粉。本发明是通过化学还原的方法形成镀锡层。体系中不加入络合剂硫脲,反应中不会有置换镀锡的发生。因此,在镀锡过程中,不存在铜离子与锡离子间的置换,也就减少了铜离子出入锡层时留下的孔洞,所以得到的镀锡层较为致密。它的应用将对电子器件及产品的发展有较大的推动作用。 | ||
搜索关键词: | 化学 还原 制备 镀锡 方法 | ||
【主权项】:
化学还原制备镀锡铜粉的方法,其特征在于,包括如下步骤:利用在水中能电离出很低浓度锡离子或亚锡离子的锡盐,被化学还原剂还原成锡单质并沉积包覆于铜粉表面,获得核壳结构的所述的镀锡铜粉。
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