[发明专利]一种太阳光谱选择性吸收涂层及其制备方法在审
| 申请号： | 201410145986.1 | 申请日： | 2014-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN104976803A | 公开（公告）日： | 2015-10-14 |
| 发明（设计）人： | 刘静;项晓东;汪洪 | 申请（专利权）人： | 太浩科技有限公司 |
| 主分类号： | F24J2/48 | 分类号： | F24J2/48;B32B15/04;B32B15/20;B32B15/00;B32B9/04;C23C14/35;C23C14/14;C23C14/08 |
| 代理公司： | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人： | 马莉华;崔佳佳 |
| 地址： | 开曼群*** | 国省代码： | 开曼群岛;KY |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提出一种太阳光谱选择性吸收涂层，涂层结构从基底到空气界面依次为：基底1、红外反射层2、半导体吸收层3(锗)和高折射率介质层41和低折射率介质层42组成的减反层4；该太阳光谱选择性吸收涂层具有优异的光谱选择性，吸收-反射过渡区陡峭；在太阳能光谱范围（0.3-2微米）具有较高的吸收率α，在热辐射红外区域（2-50微米）具有极低的吸收率/辐射率ε，α/ε远高于现有的商业产品，适合于低倍光学聚焦的中温太阳能集热器；并且制备工艺简单、镀膜设备要求低，适用于大规模低成本生产。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 太阳 光谱 选择性 吸收 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种太阳光谱选择性吸收涂层，其特征在于，依次包括：基底、红外反射层、吸收层和减反层，所述的吸收层为半导体薄膜Ge。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于太浩科技有限公司，未经太浩科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201410145986.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
