[发明专利]含叠氮基团的有机二阶非线性光学发色团及其合成方法和应用有效
| 申请号： | 201410148011.4 | 申请日： | 2014-04-14 |
| 公开（公告）号： | CN104974151B | 公开（公告）日： | 2017-12-19 |
| 发明（设计）人： | 刘新厚;司鹏;甄珍;薄淑晖;邓国伟;黄鹤燕;彭诚诚;徐化君 | 申请（专利权）人： | 中国科学院理化技术研究所 |
| 主分类号： | C07D455/04 | 分类号： | C07D455/04;C08F8/30;C08F222/40;C08F220/14;G02F1/361 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司31002 | 代理人： | 李柏 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及含叠氮基团的有机二阶非线性光学发色团及其合成方法和应用。本发明通过将叠氮基团引入到有机二阶非线性光学发色团电子给体原料中，制备出具有以下结构的含叠氮基团的有机二阶非线性光学发色团。含叠氮基团的有机二阶非线性光学发色团和含端基炔的聚合物通过Huisgen反应进行后功能化，制备出含有有机二阶非线性光学发色团的挂接型聚合物电光材料，经有机溶剂溶解涂膜后极化，可制备得到电光聚合物薄膜，并且由于有机二阶非线性光学发色团分子与聚合物以化学键形式连接，电光聚合物薄膜中的有机二阶非线性光学发色团分子具有较好的取向稳定性。 | ||
| 搜索关键词： | 含叠氮 基团 有机 非线性 光学 发色团 及其 合成 方法 应用 | ||
【主权项】：
一种含叠氮基团的有机二阶非线性光学发色团，其特征是，所述的含叠氮基团的有机二阶非线性光学发色团具有以下结构：其中，R1、R2独立的为碳原子数为1～10的烷基，或R1、R2同为3,3‑二甲基丙基，且R1、R2上3位的碳原子与苯环氨基邻位的碳原子成键；R3为叠氮烷基；R4和R5同时为甲基或R4为三氟甲基，R5为苯基；所述的叠氮烷基中的烷基的碳原子数为1～20。
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