[发明专利]一种纳米多层膜及其制备方法有效
| 申请号： | 201410149107.2 | 申请日： | 2012-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN103911594A | 公开（公告）日： | 2014-07-09 |
| 发明（设计）人： | 金攻;涂江平;李玲玲;王刚;王美娜 | 申请（专利权）人： | 中奥汇成科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 北京维澳专利代理有限公司 11252 | 代理人： | 王立民;张应 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种纳米多层膜的制备方法，包括利用磁控溅射镀膜装置进行溅射，用于镀覆纳米多层膜，转架台匀速转动，通过控制不同溅射阶段的工作电流及电压，形成包括过渡层、类金刚石与类石墨相互交替层叠的复合层及类金刚石顶层膜的纳米多层膜，其与基体具有更好结合力、润滑性及耐磨性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 多层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种纳米多层膜的制备方法，利用磁控溅射镀膜装置进行溅射，用于镀覆纳米多层膜，转架台匀速转动，包括步骤：第一溅射阶段，两个第一溅射靶从初始工作电流I1开始，每隔第一间隔时间T1，所述第一溅射靶的工作电流增加ΔI1，直到其工作电流为第一预定电流值；一个第二溅射靶从初始工作电流I2开始，每隔第二间隔时间T2，所述第二溅射靶的工作电流减少ΔI2，直到其工作电流为第二预定电流值，所述第一溅射靶和所述第二溅射靶的工作电压保持不变；第二溅射阶段，将第二溅射靶的工作电流设定并保持在第三预定电流值，第一溅射靶的工作电流保持在第一预定电流值或将第一溅射靶的工作电流设定并保持在第四预定电流值，所述第一溅射靶和所述第二溅射靶的工作电压保持不变，进行第二预定时长的溅射；第三溅射阶段，将第二溅射靶的工作电流和电压设定为零，第一溅射靶的工作电流保持在第二溅射阶段的工作电流或者将第一溅射靶的工作电流设定并保持在第五预定电流值，进行第三预定时长的溅射。
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