[发明专利]硅片清洗剂及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201410149699.8 申请日: 2014-04-15
公开(公告)号: CN103923763B 公开(公告)日: 2017-04-12
发明(设计)人: 蒋英;吴伟峰 申请(专利权)人: 常州君合科技股份有限公司
主分类号: C11D1/94 分类号: C11D1/94;C11D3/60;C11D3/20
代理公司: 常州市维益专利事务所(普通合伙)32211 代理人: 何学成
地址: 213031 江苏省常州市新北区通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种硅片清洗剂及其制备方法,该硅片清洗剂由下述浓度的组分配制而成0.5~10g/L柠檬酸、0.5~5g/L酒石酸、0.5~5mL/L的氢氟酸、0.5~15g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、0.5~15g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚,其余为水。其制备方法是①先按照配方将柠檬酸和酒石酸加入到水中溶解,得到A溶液;②然后按照配方将氢氟酸加入到水中溶解,得到B溶液;③接着按照配方将椰子油烷基醇酰胺磷酸酯和辛烷基苯酚聚氧乙烯醚加入到水中溶解,得到C溶液;④最后将上述三种溶液混合均匀,即得硅片清洗剂。本发明的硅片清洗剂可有效降低清洗后的硅片表面金属离子浓度,从而有效提高电池转换效率。
搜索关键词: 硅片 洗剂 及其 制备 方法
【主权项】:
一种硅片清洗剂,其特征在于由下述浓度的组分配制而成:0.5~10g/L柠檬酸、0.5~5g/L酒石酸、0.5~5mL/L的氢氟酸、0.5~15g/L椰子油烷基醇酰胺磷酸酯、0.5~15g/L辛烷基苯酚聚氧乙烯醚,其余为水。
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