[发明专利]标记分段方法及应用其的半导体结构制造方法有效

专利信息
申请号: 201410150885.3 申请日: 2014-04-15
公开(公告)号: CN105023911B 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 刘恩铨;黄于盈;李仁修;陈美蓁;陈雅玲;王怡静;黄志明 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L23/544 分类号: H01L23/544
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 史新宏
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 在此提供一种标记分段方法及一种应用所述标记分段方法的半导体结构制造方法。所述标记分段方法包括下列步骤。首先,通过处理器识别形成于基板上的线段,其中线段分别具有宽度WS,并以间隔SS彼此分隔开来。接着,通过处理器设置标记于线段上。此一步骤包含通过处理器调整标记的宽度WM及间隔SM,使WM等于m(WS+SS)+WS或m(WS+SS)+SS,且WM+SM等于n(WS+SS),其中m、n为整数。
搜索关键词: 线段 分段 半导体结构 处理器设置 处理器识别 调整标记 处理器 基板 分隔 应用 制造
【主权项】:
1.一种标记分段方法,包括:通过一处理器识别形成于一基板上的多个线段,其中所述线段分别具有一宽度WS,并以一间隔SS彼此分隔开来;以及通过所述处理器设置多个标记于所述线段上,包含:步骤1:通过所述处理器调整各所述标记的一宽度WM,使WM等于m(WS+SS)+WS或m(WS+SS)+SS,其中m为整数;及步骤2:通过所述处理器调整两相邻所述标记的一间隔SM,使WM+SM等于n(WS+SS),其中n为整数;其中所述步骤1及所述步骤2被反复地执行。
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