[发明专利]存储器元件的形成方法有效
申请号: | 201410151323.0 | 申请日: | 2014-04-16 |
公开(公告)号: | CN105024010B | 公开(公告)日: | 2017-10-13 |
发明(设计)人: | 林孟弘;吴伯伦 | 申请(专利权)人: | 华邦电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L45/00 | 分类号: | H01L45/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 汤在彦 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明提供了一种存储器元件的形成方法,包括在一第一电极上形成一电阻转换层;在该电阻转换层上形成一第二电极;对该电阻转换层提供一形成电压使该电阻转换层的电阻变小;在提供该形成电压后,对该电阻转换层提供一初始重置电压使该电阻转换层的电阻变大;在提供该初始重置电压后,对该电阻转换层提供一第一设定电压,使该电阻转换层的电阻变小;在提供该第一设定电压后,对该电阻转换层提供一第二重置电压,使该电阻转换层的电阻变大;以及在提供该第二重置电压后,对该电阻转换层提供一第二设定电压,使该电阻转换层的电阻变小,其中,该第二设定电压小于该第一设定电压。本发明提高了电阻式非易失性存储器的合格率与效率。 | ||
搜索关键词: | 存储器 元件 形成 方法 | ||
【主权项】:
一种存储器元件的形成方法,其特征在于,包括:在一第一电极上形成一电阻转换层;在该电阻转换层上形成一第二电极;对该电阻转换层提供一形成电压使该电阻转换层的电阻变小;在提供该形成电压后,对该电阻转换层提供一初始重置电压使该电阻转换层的电阻变大;在提供该初始重置电压后,对该电阻转换层提供一第一设定电压,使该电阻转换层的电阻变小;在提供该第一设定电压后,对该电阻转换层提供一第二重置电压,使该电阻转换层的电阻变大;以及在提供该第二重置电压之后,对该电阻转换层提供一第二设定电压,使该电阻转换层的电阻变小,其中,该第二设定电压小于该第一设定电压。
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