[发明专利]一种有机硅改性弱溶剂吸墨涂层树脂及其制备方法和应用在审

专利信息
申请号: 201410151328.3 申请日: 2014-04-15
公开(公告)号: CN105017493A 公开(公告)日: 2015-11-04
发明(设计)人: 张海蛟 申请(专利权)人: 辽宁天麒科技有限公司
主分类号: C08F283/12 分类号: C08F283/12;C08G77/20;C09J151/08;C09D151/08
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 112000 辽宁省铁岭*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要: 发明属于高分子化学和弱溶剂吸墨层领域,具体的说是一种有机硅改性弱溶剂吸墨涂层树脂及其制备方法和应用。该有机硅改性弱溶剂吸墨涂层树脂为低分子量有机硅乳液与不饱和单体进行共聚反应得到。本发明弱溶剂吸墨涂层树脂具有能快速形成稳定涂层,干燥时间短;抗水性、耐候性佳,可长期用于户外环境,不黄变,遇水不泛白;在喷墨打印状态下能迅速吸收弱溶剂墨水;粘合剂形成涂层后吸墨性能随着时间不发生变化;涂层透明,高光等优异的应用性能。
搜索关键词: 一种 有机硅 改性 溶剂 涂层 树脂 及其 制备 方法 应用
【主权项】:
一种有机硅改性弱溶剂吸墨涂层树脂,其特征在于:弱溶剂吸墨涂层树脂为低分子量有机硅乳液与不饱和单体进行进一步共聚反应所得有机硅改性高分子化合物,如通式(Ⅰ)所示:(Ⅰ)式中:m选自1‑4000的整数;n选自1‑50的整数;a、b分别选自0‑30的整数;    X选自以下所示基团之一或多个:、、、、、、、、  、 、;    R1、R2、R3可相同或不同,分别选自氢、C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基或卤素;R4、R5、R6 、R7、R8可相同或不同,分别选自C1‑C4烷基、C1‑C4烷氧基、C2‑C4烯烃基、C2‑C4炔烃基,且R4、R5、R6 、R7、R8中至少有一个为C1‑C4烷氧基。
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