[发明专利]一种掩膜板在审
| 申请号： | 201410153709.5 | 申请日： | 2014-04-16 |
| 公开（公告）号： | CN103969939A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 张康 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;张天舒 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种掩膜板，属于显示技术领域，其可解决现有的单层膜掩膜板由于欠曝光区域较大，造成应用范围有限的问题。本发明的掩膜板包括：衬底和设置的衬底两侧的用于遮挡曝光光线的挡光层，所述挡光层包括靠近曝光光线的第一挡光层和远离曝光光线的第二挡光层，所述第一挡光层和第二挡光层具有开口中心线重合的开口区域。本发明的掩膜板由于采用双挡光层设计，能够用于制作更窄线宽产品的制作，更适合于高分辨率产品的制作。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 | ||
【主权项】：
一种掩膜板，其特征在于，包括衬底和设置的衬底两侧的用于遮挡曝光光线的挡光层，所述挡光层包括靠近曝光光线的第一挡光层和远离曝光光线的第二挡光层，所述第一挡光层和第二挡光层具有开口中心线重合的开口区域。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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