[发明专利]用于薄膜沉积工艺的装置有效
| 申请号： | 201410154930.2 | 申请日： | 2014-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN103966550A | 公开（公告）日： | 2014-08-06 |
| 发明（设计）人： | 侯悦民;吴晓晶;季林红 | 申请（专利权）人： | 北京信息科技大学;清华大学 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22;C23C16/44 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 黄德海 |
| 地址： | 100192 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于薄膜沉积工艺的装置，包括：外壳；多孔喷淋头，多孔喷淋头设在外壳内并将外壳内部间隔出位于多孔喷淋头上方的第一腔室和位于多孔喷淋头下方的第二腔室；第一导向叶片，第一导向叶片可旋转地设在第一腔室内的上部；第二导向叶片，第二导向叶片设在第一腔室内并邻近多孔喷淋头设置，第二导向叶片可绕竖直方向旋转；以及升降座。根据本发明的用于薄膜沉积工艺的装置，通过在外壳内部增设第一和第二导向叶片，使进入到第一腔室内的流体先后经过第一导向叶片和第二导向叶片，进行两次混气和调速后，以预定的速度和方向通过喷淋头孔、由多孔喷淋头流出，进入到第二腔室内，从而提高了晶片表面流场的均匀性，加快了沉积速率。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 薄膜 沉积 工艺 装置 | ||
【主权项】：
一种用于薄膜沉积工艺的装置，其特征在于，包括：外壳；多孔喷淋头，所述多孔喷淋头具有沿上下方向贯通的多个喷淋孔，所述多孔喷淋头设在所述外壳内并将所述外壳内部间隔出位于所述多孔喷淋头上方的第一腔室和位于所述多孔喷淋头下方的第二腔室；第一导向叶片，所述第一导向叶片可旋转地设在所述第一腔室内的上部；第二导向叶片，所述第二导向叶片设在所述第一腔室内并邻近所述多孔喷淋头设置，所述第二导向叶片可绕竖直方向旋转；以及升降座，所述升降座设在所述第二腔室的底部。
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