[发明专利]用于纳米孔DNA测序的隧穿结的制造有效

专利信息
申请号: 201410155307.9 申请日: 2014-04-17
公开(公告)号: CN104109633B 公开(公告)日: 2017-09-26
发明(设计)人: 彭红波;S·M·罗斯纳格尔;A·K·罗尤鲁;G·A·斯托洛维茨基;王德强 申请(专利权)人: 国际商业机器公司
主分类号: C12M1/34 分类号: C12M1/34;B82Y15/00;B82Y40/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所11247 代理人: 于静,张亚非
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及用于纳米孔DNA测序的隧穿结的制造。提供了一种形成纳米器件的机制。用导电流体填充贮液器,并且形成隔膜以分开纳米器件中的贮液器。所述隔膜包括电极层,所述电极层具有形成于其中的隧穿结。形成所述隔膜以具有穿过所述隔膜的一个或多个其它层形成的纳米孔,使得所述纳米孔与所述电极层的隧穿结对准。通过电镀或者无电沉积将所述电极层的隧穿结变窄到窄尺寸。当向所述电极层施加电压时,由在所述隧穿结中的碱基产生隧穿电流,该隧穿电流作为区分所述碱基的电流特征信号被测量。当在所述隧穿结的内表面上形成有机涂层时,在所述电极层与所述碱基之间形成瞬态键。
搜索关键词: 用于 纳米 dna 隧穿结 制造
【主权项】:
一种形成纳米器件的方法,所述方法包括:用导电流体填充贮液器;在所述纳米器件中形成分开所述贮液器的隔膜,所述隔膜包括具有形成于其中的隧穿结的电极层;以及形成所述隔膜以具有穿过所述隔膜的一个或多个其它层形成的纳米孔,使得所述纳米孔与所述电极层的所述隧穿结对准;其中通过如下步骤在所述电极层中形成所述隧穿结:图案化所述电极层,所述电极层具有通过该电极层的金属条连接的两个框;在所述电极层的顶上涂布电子束抗蚀剂;穿过所述电子束抗蚀剂打开间隙形状的窗口以使得穿过所述电子束抗蚀剂的所述间隙形状的窗口可见所述金属条的一部分;蚀刻掉穿过所述电子束抗蚀剂的所述间隙形状的窗口可见的所述金属条的所述部分;以及去除所述电子束抗蚀剂,得到在所述金属条的所述部分被蚀刻掉的位置具有所述隧穿结的所述电极层;其中当向所述电极层施加电压时,由在所述隧穿结中的碱基产生隧穿电流,该隧穿电流作为区分所述碱基的电流特征信号被测量;以及其中当在所述隧穿结的内表面上形成有机涂层时,在所述电极层与所述碱基之间形成瞬态键。
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