[发明专利]真空蒸镀设备有效
| 申请号： | 201410155556.8 | 申请日： | 2014-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN103993266A | 公开（公告）日： | 2014-08-20 |
| 发明（设计）人： | 吴海东 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种真空蒸镀设备，涉及真空蒸镀技术领域，能够提高真空蒸镀过程中的有机材料的利用率。所述真空蒸镀设备包括蒸镀腔和设置于所述蒸镀腔中的蒸发源，还包括：设置于所述蒸镀腔中的多块基板，所述多块基板位于所述蒸发源开口的一侧；所述蒸发源开口处作为球心形成第一球面，每块所述基板均与所述第一球面相切。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 设备 | ||
【主权项】：
一种真空蒸镀设备，其特征在于，包括蒸镀腔和设置于所述蒸镀腔中的蒸发源，还包括：设置于所述蒸镀腔中的多块基板，所述多块基板位于所述蒸发源开口的一侧；所述蒸发源开口处作为球心形成第一球面，每块所述基板均与所述第一球面相切。
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