[发明专利]一种用于多探头近场散射成像的幅度校准方法有效
| 申请号： | 201410158160.9 | 申请日： | 2014-04-18 |
| 公开（公告）号： | CN103955008B | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 杜刘革;胡大海;常庆功;王亚海;刘伟;周杨;颜振 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十一研究所 |
| 主分类号： | G01V13/00 | 分类号： | G01V13/00 |
| 代理公司： | 北京天奇智新知识产权代理有限公司11340 | 代理人： | 陈永宁 |
| 地址： | 266000 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于多探头近场散射成像的幅度校准方法，步骤1：利用多探头探测系统测量背景散射数据；步骤2：测量待测目标散射数据；步骤3：进行金属板散射数据测量；步骤4：对待测目标进行背景对消得到散射数据，对所得数据进行成像处理得到成像结果；步骤5：对校准金属板进行背景对消得到散射数据，利用RMA算法对其进行成像处理得到成像结果；步骤6：利用公式一对成像结果进行校准，得到校准后待测目标的成像结果。采用上述方案，能够进行微波/毫米波成像的方位向幅度校准，主要用于幅度精度较差的多探头成像系统，使用简单校准件直接对成像结果进行校准，提高成像精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 探头 近场 散射 成像 幅度 校准 方法 | ||
【主权项】：
一种用于多探头近场散射成像的幅度校准方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1：利用多探头探测系统测量背景散射数据S0或设定S0=0；步骤2：测量待测目标散射数据S；步骤3：在待测目标距离向相同位置处放置大于待成像区域的金属板，进行金属板散射数据测量Sstd；步骤4：对待测目标进行背景对消得到散射数据S‑S0，利用RMA算法对其进行成像处理得到成像结果f(x,y)；步骤5：对校准金属板进行背景对消得到散射数据Sstd‑S0，利用RMA算法对其进行成像处理得到成像结果fstd(x,y)；步骤6：利用公式一对成像结果进行校准，得到校准后待测目标的成像结果fcali(x,y)，公式一：fcali(x,y)=f(x,y)fstd(x,y).]]>
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